荷蘭光刻設備商ASML(ASML.US) 表示,公司已找到提升關鍵晶片製造設備光源功率的方法,目標於本年代結束前把晶片產量提高最多50%。ASML是全球唯一商用極紫外光刻(EUV)設備製造商,ASML NXE系列EUV設備執行副總裁Teun van Gogh表示,公司希望客戶能以更低成本持續使用EUV。他預計,到本十年末,每台設備每小時可處理約330片晶圓,高於目前約220片。(me/s)(美股為即時串流報價; OTC市場股票除外,資料延遲最少15分鐘。)